ミニマルファブ構想ミニマル製造装置のデザイン-2／セミコンジャパン2011

昨年の12月7日から9日まで幕張メッセで、半導体を中心としたマイクロエレクトロニクスの製造を支える装置・材料産業の、世界を代表する総合イベント『セミコン・ジャパン2011』が開催されました。

その出展者である産総研コンソーシアム・ファブシステム研究会の『ミニマルファブ構想』の統一ブランドロゴマーク[ minimal ]は一昨年にデザインさせていただいたものですが、今回のブースデザインは壁面が白基調で清潔感があり、展示会場でありながら、まさにクリーンルームのような雰囲気を醸し出していました。

そしてブースの随所にはロゴマークが配され、説明員は背に人型ロゴの入った白いスタッフジャンパーを身に着けていることで、現在51社5大学1公設研1財団そして産総研からなるコンソーシアムの研究会でありながらブースとしての一体感もあり、PJ統一ロゴをデザインした一定の効果は実感できました。

また、産総研が提唱するそのミニマルファブ構想に基づいて開発したミニマル製造装置ですが、前回からタッチパネル周辺の変更や、内部を確認するためのサイドウィンドウの追加など外観上はマイナーバージョンアップですが、メンテナンス性の向上などかなりの進歩をとげています。

半導体製造における洗浄装置、露光装置、レジスト塗布などの各プロセスの次世代技術が詰まった装置のサイズを統一、外観デザインを共通化し、スタンドアロンでの用途、また連続しての用途の両方を成立させるためのこの筐体デザインは、機能を成立させる範囲での最低限の造形に抑えて、そのデザインもミニマルにとどめているということは前回から変わりありません。

装置の工程によっては、到底このサイズに収まらないと思われた装置も、これぞ日本企業の底力で具体的な技術目標（今回はこの共通化されたサイズ）があることで、問題をひとつずつ解決してこのサイズに収めていきます。また、競技のレギュレーションと同様に、規格を統一し、共通の筐体とすることで、コンソーシアム参加希望の企業も増えているとの事です。

半導体業界の常識では大きな工場のクリーンルームでしか実行できないとされる工程がほとんどですが、会場で30分に1回行われたリソグラフィーの実演では、デモの度に毎回黒山の人だかりで、実演が終わると拍手が起きる程の盛況ぶりでした。





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http://techon.nikkeibp.co.jp/article/INTERVIEW/20111212/202470/

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http://getnews.jp/archives/158155

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じへいの動画解放軍『一個からLSIを作成可能 Minimal ファブシステム研究会』
http://www.youtube.com/watch?v=Lh_ybpToFAo&feature=player_embedded


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